プラナリゼーションCMP委員会、100回突破・16周年記念特別研究会を開催

 精密工学会「プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会」(プラナリゼーションCMP委員会、 http://www.planarization-cmp.org )は9月10日、東京・根津の東京大学・武田先端知ビルで「100回突破・16周年記念特別研究会」を開催、約150名が参加した。

 当日はまず土肥敏郎委員長(写真、九州大学)が「本年度で定例研究会が100回を突破するのを節目として、これまでの経過をまとめ、将来に向け役立てようと本会を企画した。これを機に研究会活動を活性化するとともに、若手の育成にも努めていきたい」と挨拶した後、佐々木 元氏(NEC 特別顧問)が「CMPは半導体製造で極めて重要な基本をなす技術。装置、加工工具、材料、デバイスのメーカーが集まったプラナリゼーションCMP委員会には、今後もそのコラボレーションによりわが国の技術を牽引する役割を担ってほしい」と祝辞を述べ、以下の通り講演が行われた

基調講演
(1)「日本産業の未来と中国半導体の現状と課題」川西 剛氏(TEKコンサルティング・中国SMICS社外役員)

(2)「A review of recent advances in the polishing of silicon dioxide and nitride and polysilicon films」S.V.Babu氏 (Clarkson university)

(3)「日本半導体産業を元気にする将来のために」坂本幸雄氏(エルピーダメモリ)(株)代表取締役社長 兼 CEO

記念シンポジウム―プラナリゼーションCMP の来し方行く末について語る―
(1)「これまでのLSIデバイスと平坦化CMP技術」青木利一郎氏(フジミインコーポレーテッド)

(2)「Consumable Considerations: Present and Future」Jam Sorooshian氏 (Intel)

(3)「三次元実装から見たこれからの超LSIデバイスの行方」大場隆之氏(東京大学)

研究会活動報告
(1)「本研究会の立ち上げの歴史」土肥俊郎氏(九州大学)

(2)「15 周年にあたり」木下正治氏(ニッタ・ハース)

(3)「国際会議レビュー」近藤誠一氏(ルネサスエレクトロニクス)

(4)「プロシーディングスから見たトピックス」武野泰彦氏(グローバルネット)

特報講演
(1)「パラダイムシフト20」辻村 学氏(荏原製作所)

記念講演
(1)「プラナリCMP研究会に期待する」 中川威雄氏(ファインテック)